来源： 时间：2022-04-25 19:35:04
尼康公司 (Nikon Corp.) 周一表示，已在荷兰，德国和日本就在荷兰和德国公司生产的产品中使用半导体光刻技术采取了法律行动。
尼康表示，正在寻求阻止荷兰公司ASML Holding NV及其供应商Carl Zeiss SMT GmbH未经其许可使用专利技术。此举是在调解未能解决有关使用该技术制造计算机芯片的权利的分歧之后进行的。
ASML对尼康的行为表示失望，并否认它侵犯了尼康的任何专利。“ASML认为尼康的主张毫无根据。我们将为自己的指控进行有力的辩护，我们将考虑我们可以使用的一切手段，”ASML在一份声明中说。
尼康表示，已向荷兰海牙地方法院提起了11起针对ASML的专利侵权案件。它说，它还正在对东京的ASML和德国曼海姆的蔡司提起专利侵权诉讼。这家总部位于东京的公司在一份声明中表示: “ASML和蔡司继续未经授权使用尼康的专利技术，这让尼康别无选择，只能在法院强制执行其合法权利。”
尼康开创了浸入式光刻技术，该技术用于制造智能手机，存储芯片和其他产品的半导体。它说ASML是唯一一家销售浸入式技术系统的公司。蔡司制造用于ASML光刻系统的光学组件。这家日本公司表示，正在寻求法院的禁令，以阻止ASML和蔡司出售这些系统，并寻求未公开的赔偿金额。关于使用尼康光刻系统的分歧可以追溯到20世纪90年代。
两家公司达成了一项和解2004年，其中涉及永久许可某些专利，而其他专利则直到2009年结束。两家公司同意不起诉对方2010年和2014。 尼康声称，在宽限期内，ASML和蔡司一直在未经许可的情况下使用其技术。尼康生产数码相机和其他与相机相关的产品，双筒望远镜和工业精密设备等设备。
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